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LPCVD設備


所屬分類:

立式爐管設備

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半導體芯片設備

LPCVD設備


概要:

?適用領域:集成電路、先進封裝 Relevant Industries: Integrated Circuits, Advanced Packaging ?適用材料:Si、SiC Suitable for Processing: Silicon (Si), Silicon Carbide (SiC) ?晶圓尺寸:12/8/6英寸 Wafer Size: 12/8/6 inch ?適用工藝:氮化硅(SiN)、多晶硅(Poly-Si/U-Poly/D-Poly)、二氧化硅(TEOS)、HTO等 Applicable Processes: Silicon Nitride (SiN) Deposition, Polysilicon (Poly-Si / U-Poly / D-Poly) Deposition, Silicon Dioxide (TEOS) Deposition, HTO, etc.


關鍵詞:

臥式爐



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